名称：等离子增强原子层沉积系统（PEALD）
厂家：英作纳米科技（北京）有限公司
型号：LabNano PETM
等离子增强原子层沉积技术是更优异的原子层沉积技术。相比较于传统原子层沉积该设备具有独特的腔体和气路设计，专利技术的喷淋式等离子体和前驱体气体进口以及独特的穹顶型扩散腔和纺锤形真空腔，让等离子体和前驱体在反应腔内更加均匀扩散。它还具有原子层沉积专用的ICP远程等离子体源，相对于电容式等离子源具有更高密度的自由基，更温和的离子能量。消除了等离子体对基片表面薄膜的刻蚀作用，提高了成膜质量与沉积效率。等离子体产生腔采用高纯（>99%）氧化铝，可兼容氟化物在内的多种气体；铝制等离子体扩散腔防止腔壁杂质在等离子作用下的析出。
仪器实验室：东区二教112
仪器负责人：石凯熙
